DyAl合金薄膜在NdFeB基体上真空热扩渗行为的研究

摘要：

采用直流(Dc)磁控溅射的方法,在烧结NdFeB磁体表面制备了DyAl合金薄膜,镀膜样品经真空热扩渗(800℃x6h)和时效处理(900℃x2.5h+490℃x5h),研究了样品的微观结构组织与磁性,并对Dy、Al元素在基体中的真空热扩渗行为进行了探讨.结果表明,随着DyAl合金薄膜厚度的增加,磁体的内禀矫顽力Hcj相应提高,内禀矫顽力Hcj提高176kA/m(2.2kOe).通过对样品微观组织结构观察发现Dy和Al元素沿晶界富Nd相优先扩散,大量集中分布在主相晶粒表层和富Nd相交界处,不仅改善了晶界表面浸润性,也改变了主相晶粒表层合金成分和微结构,这种晶粒表面与晶界相的改性导致烧结NdFeB磁体的内禀矫顽力Hcj提高.

关键词：磁控溅射、DyAl合金、薄膜、烧结NdFeB、真空热扩渗

所属期刊栏目：31

分类号：TM273(电工材料)

在线出版日期：2010-12-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：17-20