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10.3969/j.issn.1671-5284.2015.06.010

温室和露地条件下不同浓度腐霉利在黄瓜中的残留消解特性研究

引用
研究温室和露地2种栽培条件下,腐霉利在黄瓜中的残留消解规律.结果表明:2种栽培条件下,喷施50%腐霉利可湿性粉剂1 500 g/hm2和3 000 g/hm2后,黄瓜上腐霉利初始沉积量存在较大差异,施药剂量越大,初始沉积量越高.腐霉利在黄瓜中的残留消解动态符合一级动力学方程.腐霉利高、低用量在露地黄瓜中的半衰期均为1.1d;在温室黄瓜中的半衰期均为2.9d.

腐霉利、黄瓜、温室、露地、残留、消解动态

14

TQ450.2+63

甘肃省科技支撑计划项目1204NKCH081

2016-02-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

38-40

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1671-5284

32-1639/TQ

14

2015,14(6)

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