光栅尺光刻过程中的热辐射模拟分析

摘要：

国产光栅尺的动态性能和精度均达不到数控机床的要求,而影响光栅尺精度的关键步骤是光刻,光刻过程中的影响因素包括机床安装的垂直度和抗干扰度,机床轨道的表面精度和水平度以及环境温度等等,其中对环境温度影响却少有研究.为了能更好的提高光栅尺的精度,本文基于Matlab对光刻过程中的曝光灯热辐射做了数据模拟分析,发现曝光灯的热辐射对光刻时的子光栅刻度等距性有很大影响,而控制这个热辐射数值目前在国内可行性更高,因为无论对于这个控制系统的复杂程度还是所需成本,相比于高精度的温度梯度微环境控制,都有一定的优越性.

关键词：光刻、Matlab、热辐射、数据模拟分析、等距性、温度梯度

分类号：TH822

在线出版日期：2014-03-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：5-7