铜金属纳米线的制备及其图案化

摘要：

采用电化学沉积法在孔径为200nm的阳极氧化铝膜AAO模板中成功制备了Cu金属纳米线阵列、结合紫外线光刻法组装了图案化铜纳米线阵列.电化学沉积法可通过控制沉积时间来获得具有不同长径比的铜纳米线阵列;图案化的纳米线排列规整,高度有序;且纳米线组成的形状与掩膜相同.

关键词：铜纳米线、电化学沉积法、图案化、AAO

所属期刊栏目：27

分类号：O614.121(无机化学)

在线出版日期：2008-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：42-44