10.3321/j.issn:0253-4320.2003.11.009
二次插层法制备有机蒙脱石的研究
用甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵和十六烷基三甲基溴化铵作为插层剂,采取二次插层法制备了有机化蒙脱石,并对一次插层法和二次插层法的效果进行了比较,结果表明,经过二次插层反应后,蒙脱石的层间距从1 nm左右增大至3 nm,有利于有机分子的进入和形成新的蒙脱石有机复合物.
蒙脱石、有机物、插层反应
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O74(晶体化学)
国家自然科学基金Z02026
2004-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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