10.3321/j.issn:0253-4320.2003.08.004
纳米二硫化钼制备现状与发展趋势
从还原法、分解法、氧化法、电化学法等方面入手,评述了化学法制备纳米二硫化钼的现状.介绍了用单层MoS2重堆积制备纳米插层化合物(夹层化合物)的方法,包括制备的机理、客体物质的种类及MoS2插层化合物的性能与应用等.简要介绍了二硫化钼的结构、性质与功能以及制备纳米MoS2的物理方法.最后对各种制备方法的优缺点进行了分析与对比,并展望了纳米MoS2的制备技术与方法的发展前景,强调纳米MoS2的制备应是多种方法相结合,朝着制备纳米复合型材料的方向发展的观点.
纳米二硫化钼、重堆积法、纳米插层化合物、化学法、纳米材料
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TQ136.12;TB383
安徽省自然科学基金00046103
2003-11-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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14-17,21