10.3969/j.issn.1004-373X.2011.12.043
晶体硅太阳电池减反射膜的研究
在太阳电池表面形成一层减反射薄膜是提高太阳电池的光电转换效率比较可行且降低成本的方法.应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统,采用SiH4和NH3气源以制备氮化硅薄膜.研究探索了PECVD生长氮化硅薄膜的基本物化性质以及在沉积过程中反应压强、反应温度、硅烷氨气流量比和微波功率对薄膜性质的影响.通过大量实验,分析了氮化硅薄膜的相对最佳沉积参数,并得出制作减反射膜的优化工艺.
太阳电池、PECVD、减反射、氮化硅薄膜
34
TN919-34
国家自然科学基金资助项目60976020;陕西省教育厅基金资助项目112Z051
2011-09-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
145-147,151