10.3969/j.issn.1008-892X.2016.11.006
观美日欧第3代半导体材料产业思中国发展之路
以碳化硅(S i C)、氮化镓(G a N)为代表的第3代半导体材料具有高热导率、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高键合能等优点,能够满足现代电子技术对高温、高功率、高压、高频及抗辐射等条件的要求,在太阳能、半导体照明、智能电网等众多领域应用不仅可以减少一半以上的能量损失,而且可以使装备体积大大缩小(如笔记本电脑适配器可减小80%,一个电站将只有手提箱那么大),在国防安全、航空航天、新能源、光存储、石油勘探等多个领域有着广阔的应用前景。正是由于第3代半导体材料的优异性能、未来广阔的应用空间以及对国家安全、经济发展、节能环保等多个方面可能带来的巨大影响,使之成为各国竞相发展的战略高地。
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F32;TP2
2016-12-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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