10.3969/j.issn.1008-892X.2016.11.003
第3代半导体发展概述及我国的机遇、挑战与对策
第3代半导体材料是指带隙宽度明显大于硅(S i)(1.1e V)和砷化镓(G a A s)(1.4e V)的宽禁带半导体材料。它具备禁带宽度大、击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能,是固态光源、下一代射频和电力电子器件的“核心”,在半导体照明、消费类电子、5G移动通信、新能源汽车、智能电网、轨道交通等领域有广阔的应用前景,有望突破传统半导体技术的瓶颈,与第1代、第2代半导体技术互补,对节能减排、产业转型升级、催生新的经济增长点发挥重要作用,正在成为全球半导体产业新的战略高地。我国在半导体照明方面已经形成完整的产业链和一定的产业规模,成为全球发展最快的区域,为第3代半导体在其他领域的应用奠定了良好的基础。但我国在电力电子、通讯等领域的研发和产业化与国外差距较大,需要加大研发投入,建立体制机制创新的研发创新和科技服务平台,构建立足地方、带动全国、引领世界的跨学科、跨行业、跨区域的第3代半导体创新价值链,重塑全球半导体产业发展格局。
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TN3;TM9
2016-12-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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