10.3969/j.issn.1008-892X.2011.08.013
我国晶体领域专利申请现状分析
晶体材料在微电子、光学、光电子、声学、磁学等领域都具有广泛的应用,发展较为迅速,竞争也日益激烈.运用知识产权,通过法律所赋予的独占地位取得竞争优势,是晶体行业在新形势下需要面对的重要课题.本文对我国晶体领域的专利现状进行了统计和分析,希望能够为促进晶体领域科研和生产的可持续发展提供一些参考.本文采用中国专利文献检索系统(以下简称“CPRS系统”)和德温特世界专利索引数据库(以下简称“德温特数据库”)对1985年到2011年5月31日的晶体领域专利文献进行检索统计.
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TP3;G35
2012-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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