他克莫司联合窄谱中波紫外线对黑素细胞黑素合成的影响

摘要：

目的 评价他克莫司联合窄谱中波紫外线(NB-UVB)对人表皮黑素细胞酪氨酸酶活性及黑素合成的影响.方法 用MTT法筛选他克莫司最佳作用浓度,根据对黑素细胞不同干预方法分为:他克莫司组、NB-UVB组、他克莫司+ NB-UVB组,未处理组为对照组.NB-UVB的照射剂量为25 mJ/cm2,以左旋多巴为底物测定酪氨酸酶活性,NaOH法测定黑素合成的影响.结果 他克莫司(10、102、103 nmol/L)对黑素细胞增殖无明显影响(P＞ 0.05),104 nmol/L他克莫司明显抑制黑素细胞增殖(P＜0.05),故选择103 nmol/L为最佳浓度用于后续实验；他克莫司(103 nmol/L)、NB-UVB(25 mJ/cm2)、他克莫司+NB-UVB三组酪氨酸酶活性及黑素合成均明显高于对照组(P＜0.05)；他克莫司+NB-UVB组酪氨酸酶活性及黑素合成高于他克莫司组及NB-UVB组(P＜0.05).结论 他克莫司联合NB-UVB可以协同增加黑素细胞酪氨酸酶活性及黑素合成.

关键词：他克莫司、窄谱中波紫外线、黑素细胞、黑素合成、酪氨酸酶

所属期刊栏目：34

分类号：R758.4;Q813.1(皮肤病学与性病学)

在线出版日期：2013-04-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：237-239,252