10.13682/j.issn.2095-6533.2020.03.008
磁控溅射氧化镓薄膜的制备及紫外探测性能
采用磁控溅射技术在石英衬底上制备氧化镓(Ga2O3)薄膜,研究溅射过程中不同氩氧比对薄膜晶体结构、表面形貌、粗糙度、拉曼光谱以及紫外探测性能等的影响.利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱仪和紫外-可见分光光度计等测试仪器对氧化镓薄膜进行表征分析.实验结果表明,氧化镓薄膜呈现β型晶体结构,薄膜表面晶粒尺寸均匀;溅射过程中加入氧气可以有效减少氧化镓薄膜中的氧空位缺陷,适当增大氧氩比可有效提高薄膜质量和薄膜对紫外光的探测能力.
氧化镓、磁控溅射、紫外探测
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O484.1(固体物理学)
国家自然科学基金项目61874087,61634004
2020-12-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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