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10.3969/j.issn.1006-4710.2009.01.004

基于磁控溅射技术沉积光伏电池用硅基薄膜材料的研究

引用
硅基薄膜太阳能电池是光伏电池领域最具有发展前景的组件.采用非平衡磁控溅射技术制备氢化硅薄膜和SiNx/Si纳米多层膜,并对其结构与性能进行了分析.结果表明,Si∶ H薄膜呈现出非晶硅和硅纳米晶颗粒复合结构;随着溅射混合气中氢气含量的增加,Si∶ H薄膜的晶化程度增强;Si∶ H薄膜的光学带隙均高于2.0eV.利用交替磁控溅射方法沉积的SiNx/Si纳米多层膜结构,其呈现出非晶相.

硅薄膜、硅纳米晶、SiNx/Si纳米多层膜、磁控溅射

25

O484.1(固体物理学)

国家高技术研究发展计划863计划资助项目2005AA33H010;西安理工大学科研基金资助项目101210703

2009-06-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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西安理工大学学报

1006-4710

61-1294/N

25

2009,25(1)

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