磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析

摘要：

利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱和X 射线光电子能谱 (XPS)等分析方法对镀层的微观结构进行了研究.结果表明:不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似,类石墨碳镀层是以sp2键结构为主,且含有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层,sp3键含量在12～15%范围;根据高斯解谱计算,镀层中碳团簇线度为1.2 nm以下,并随铬含量增高而减小;镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成,并随铬含量增高,逐步有碳铬化合物形成.

关键词：非平衡磁控溅射、类石墨碳镀层、微结构、Raman光谱、X射线光电子能谱

所属期刊栏目：24

分类号：O484.5;TH117.3(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2005AA33H010

在线出版日期：2008-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：8-12