10.3969/j.issn.1006-4710.2007.01.018
衬底温度和退火温度对磁控溅射TiNi合金薄膜组织结构的影响
通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等测试方法研究了不同的衬底加热温度和不同晶化退火温度对磁控溅射法制备的TiNi薄膜组织结构的影响.结果表明:加热衬底可以降低薄膜的晶化温度,通过控制加热温度可以控制晶粒的大小,同时可有效抑制析出相的产生;非晶薄膜在晶化的同时伴随Ti3Ni4相的析出,随晶化温度的升高析出相在长大的同时数量也明显增多.
TiNi薄膜、组织结构、磁控溅射
23
TG164.2(金属学与热处理)
西安理工大学校创新基金101-210302
2007-12-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
75-78