Cr靶电流对磁控溅射C/Cr复合镀层性能和结构的影响

摘要：

使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了C/Cr复合镀层,并研究了Cr靶电流对C/Cr复合镀层摩擦学性能的影响规律.采用XPS检测了C/Cr复合镀层的化学成分,采用XRD分析了镀层的晶相结构,采用SEM观察了镀层的表面和断口形貌.实验结果表明:使用较小的Cr靶电流能改善镀层表面质量,降低镀层摩擦系数;Cr靶电流过大时,镀层的性能明显下降.

关键词：C/Cr复合镀层、Cr靶电流、摩擦学性能、显微结构

所属期刊栏目：23

分类号：TH117.3

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2005AA33H010

在线出版日期：2007-12-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：10-13