3C-SiC纳米粉烧结制备多孔碳化硅的研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1006-4710.2004.04.010

3C-SiC纳米粉烧结制备多孔碳化硅的研究

引用
研究了用3C-SiC纳米粉末压制成坯后烧结制备多孔碳化硅的温度和时间工艺参数,采用扫描电子显微镜(SEM)分析了烧结温度和时间对烧结样品平均孔径尺寸的影响,采用X射线衍射(XRD)分析了烧结样品的结构.研究结果表明,在100 kPa压力的氩气气氛中和1600℃4 h 30 min~4 h 50 min的烧结条件下,烧结样品的主要结构是3C-SiC,其他晶型基本消失;烧结样品具有大量的纳米孔,其平均孔径约为80~90 nm.

碳化硅纳米粉、烧结、多孔碳化硅、纳米结构

20

TN304.05;TN304.07(半导体技术)

2005-03-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

379-381

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

西安理工大学学报

1006-4710

61-1294/N

20

2004,20(4)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn