溅射金膜对氧化铝陶瓷纳秒脉冲真空沿面闪络的影响

摘要：

研究了溅射金膜对氧化铝陶瓷在真空环境中、纳秒脉冲高电压作用下沿面闪络特性的影响规律.通过对氧化铝陶瓷表面粗糙度、电极接触形式的研究,并结合表面态陷阱、界面能带结构、电荷注入过程的分析,探究了影响氧化铝陶瓷溅射金膜后沿面闪络电压的主要原因.在50 ns/1.2μs脉冲下、电极间距10 mm时,测量各试样的闪络电压60次,取后30次平均值作为稳定的闪络电压.研究结果发现,氧化铝陶瓷在溅射金膜电极试样的闪络电压比直接压接电极试样的闪络电压低,这是因为在不同电极接触方式下,氧化铝陶瓷材料的表面态对真空中的电子发射和材料表层的电荷注入的影响不同所致.

关键词：沿面闪络、氧化铝陶瓷、纳秒脉冲、溅射金膜、表面态

所属期刊栏目：45

分类号：TM855(高电压技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50437030,50577048

在线出版日期：2011-12-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：97-101