多层冷压印光刻中超高精度对正的研究

摘要：

为满足多层冷压印光刻中套刻的超高精度要求,提出了基于斜纹结构光栅的对正技术.利用光电接收器件阵列组合接收光栅产生莫尔条纹的零级光,得到条纹平面内X、Y方向的对正误差信号.通过调整光栅副的间隙来提高误差信号的对比度.利用高对比度和灵敏度的误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行宏微两级驱动控制,并由激光干涉仪作为控制系统的反馈环节在驱动过程中进行全程监测,实现自动对正.最终使在X、Y方向上的重复对正精度达到了±20 nm,满足了100 nm特征尺寸压印光刻的对正精度要求.

关键词：压印光刻、结构光栅、莫尔条纹、超高精度、对正

所属期刊栏目：38

分类号：TH112;TH113.1

资助基金：国家自然科学基金50275118;国家高技术研究发展计划863计划2002AA420050;国家重点基础研究发展计划973计划2003CB716202

在线出版日期：2004-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：895-899