10.3969/j.issn.1671-4423.2004.02.012
暗室处理对射线底片质量的影响
通过对暗室处理过程中各个环节的控制,降低射线底片缺陷率提高射线底片质量.
射线底片、暗室处理、缺陷
28
TG115.28(金属学与热处理)
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
33-35
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10.3969/j.issn.1671-4423.2004.02.012
射线底片、暗室处理、缺陷
28
TG115.28(金属学与热处理)
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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