具有择优取向性的基材表面的薄膜厚度的X射线衍射测量修正
根据薄膜对X射线的吸收效应,利用X射线衍射方法可测量出多晶基材表面的薄膜厚度.但试验结果显示,基材的择优取向效应对薄膜厚度的测量影响显著.根据理论分析,提出了择优取向修正方法.在对X射线衍射数据进行择优取向修正后,利用最小二乘法对修正后的数据进行拟合.拟合结果显示,该方法可以有效地对基材的择优取向效应进行修正,从而获得较为准确的薄膜厚度值.
X射线衍射、择优取向、厚度测量、基材、薄膜
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TG115.28(金属学与热处理)
国防基础科研课题A1520070073
2009-10-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
628-630,638