反面水浴斜曝光法制作三维微透镜阵列

摘要：

提出一种反面水浴斜曝光的方法用于制作主光轴平行于基底的微透镜阵列.已有的水浴斜曝光法中,由于基底处光刻胶获得曝光剂量较少而不易充分交联固化,在显影时出现与基底粘附不牢固,导致成品率较低.反面水浴斜曝光的方法,是通过光刻以及溅射工艺在玻璃基底上复制掩膜图形,匀光刻胶之后,采用玻璃基底朝上、光刻胶朝下的曝光方法,此方法得到的光刻胶结构很容易牢固地固定在玻璃基底上,显影时不易脱落,提高了成品率,同时有利于后续倒模复制工艺.用该方法获得的透镜直径约为200 μm.

关键词：三维、微透镜阵列、主光轴水平、反面水浴曝光、SU-8光刻胶

所属期刊栏目：50

分类号：TH703(仪器、仪表)

资助基金：国家自然科学基金面上项目61176115;新世纪优秀人才支持计划资助项目130951862

在线出版日期：2013-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：646-651