纳米压印光刻胶

摘要：

光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性.提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标.并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点.列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用.介绍了可降解光刻胶的原理.展望了压印光刻胶的发展趋势.

关键词：纳米压印(NIL)、热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、氟聚合物、有机硅聚合物

所属期刊栏目：48

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：上海市科委纳米科技专项1052nm07500

在线出版日期：2012-01-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：606-612