10.3969/j.issn.1671-4776.2008.06.012
声表面波器件电子束淀积Al膜研究
研究了声表面波器件研制过程中铝膜厚度准确控制技术及Al膜均匀性提高的技术.由理论分析推导出片架上的各点膜厚分布.根据片架各点的膜厚分布及蒸发空间场分布,设计所需的各项参数;计算出调整板的形状、调整板位置以及灯丝位置等参数对蒸发均匀性的影响.通过调整挡板位置和结构,调整灯丝位置及改进蒸发源参数,形成点蒸发源和微小面源模式,提高了Al膜厚度均匀性,工艺调整后的Al膜厚度偏差小于2%,提高了生产率.结果表明,批生产线的Al膜蒸发工艺成熟可靠.
声表面波器件、Al膜、电子束淀积、均匀性、准确性
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TN305.8(半导体技术)
2008-08-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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