10.3969/j.issn.1671-4776.2006.06.006
静电雾化技术在纳米薄膜制备中的应用研究
对静电雾化的基本概念、原理和典型喷洒模式作了介绍,对静电雾化技术在纳米薄膜制备中的应用进行了阐述,最后对静电雾化技术在薄膜制备中存在的问题和影响薄膜微观结构和性能的因素作了总结.
静电雾化、纳米材料、工艺参数、薄膜制备
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TN304.055;TF123.112(半导体技术)
中国科学院项目(非规范项目);安徽省教育厅自然科学研究项目
2006-07-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
284-288,306