液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术

摘要：

发射尖是液态金属离子源的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性.本文通过对源尖腐蚀的多次实验,开发了一套发射尖腐蚀装置,该装置可以对发射尖插入腐蚀液的深度加以控制,并能在腐蚀完成后自动切断回路电流,实现了发射尖腐蚀工艺的重复性和可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制开发提供了一个有效的辅助工具.

关键词：聚焦离子束、液态金属离子源、发射尖

所属期刊栏目：42

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：142-144