胶束增敏荧光分析法测定痕量Cu
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1005-5320.2006.01.022

胶束增敏荧光分析法测定痕量Cu

引用
研究发现,在pH 6.4的tris-HCl缓冲介质中,表面活性剂十二烷基硫酸钠(SDS)对Cu与头孢羟氨苄(CFD)生成的配合物的荧光有显著的增敏作用.据此建立了SDS胶束增敏荧光分析法测定水中痕量Cu的新方法.在最佳实验条件下其浓度线性范围为0.02~1.28 μg/ml,检出限为5.82×10-10g/ml.将新建方法应用于实际水样中Cu的测定,相对标准偏差为小于1.68%,样品加标回收率为94.60%~102.10%,结果满意.

十二烷基硫酸钠、荧光法、铜、测定

23

O657.31(分析化学)

2006-03-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

45-46

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

微量元素与健康研究

1005-5320

52-1081/R

23

2006,23(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn