利用离子激发发光研究ZnO离子注入和退火处理的缺陷变化

摘要：

在北京师范大学GIC4117 2 × 1.7 MV串列加速器上,利用离子激发发光(ions beam induced luminescence,IBIL)技术研究了2 MeV H+注入ZnO的缺陷变化及473和800 K退火处理对缺陷的恢复作用.实验表明,在2 MeV H+的辐照下,晶体内部产生的点缺陷会快速移动、聚集成团簇,从而抑制发光.473 K退火后的受辐照ZnO晶体内仍存在着大量的缺陷和团簇,而这些缺陷和团簇作为非辐射中心抑制着ZnO晶体的发光.800 K的退火处理可以显著地分解辐照过程中形成的团簇,也可以帮助点缺陷回到晶格位置,从而减少晶体内部的不平衡缺陷,提高晶体的结晶度,使退火后的受辐照ZnO样品IBIL光强大幅度增强.

关键词：离子激发发光、退火、ZnO

所属期刊栏目：69

资助基金：国家自然科学基金青年科学基金;中央高校基本科研业务费专项资金;中国博士后科学基金

在线出版日期：2020-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：26-31