沉积态铀薄膜表面氧化的X射线光电子能谱

摘要：

含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气及超高真空度环境中暴露一段时间后,利用X射线光电子能谱仪结合Ar+束深度剖析技术考察U层中氧(O)元素分布及价态,分析氧化产物及机理.结果显示,初始状态的U薄膜中未检测到O的存在.Au-U复合薄膜中的微观缺陷减弱了Au防护层的屏蔽效果,使其在3周左右时间内严重氧化,产物为U表面致密的氧化膜及缺陷周围的点状腐蚀物,主要成分均为二氧化铀(UO2).在高纯Ar气中纯U薄膜仅暴露6 h后表面即被严重氧化,生成厚度不均匀的UO2.在超高真空度环境下保存12 h后,纯U薄膜表面也发生明显氧化,生成厚度不足1 nm的UO2. Ar+束对铀氧化物的刻蚀会因择优溅射效应而使UO2被还原成非化学计量的UO2?x,但这种效应受O含量的影响.

关键词：沉积态、铀薄膜、氧化、X射线光电子能谱

所属期刊栏目：67

分类号：TG1;TN3

资助基金：国家自然科学基金批准号:51702303资助的课题. Project supported by the National Natural Science Foundation of China Grant 51702303

在线出版日期：2018-02-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

页码：213-223