双层石墨烯在栅压调控下的各向异性刻蚀?

摘要：

石墨烯纳米结构在纳电子学研究领域表现出了良好的应用前景.氢等离子体各向异性刻蚀技术是加工石墨烯精细纳米结构的关键技术之一，可以实现10 nm以下平整的锯齿型石墨烯纳米带的可控加工.本文系统研究了外加电场对石墨烯各向异性刻蚀效应的影响，利用外加栅压实现了氧化硅衬底上的双层石墨烯各向异性刻蚀速率的调控.在±30 V栅压变化范围内，刻蚀速率比可达45.由此不仅可以提高大批量加工石墨烯纳米结构的效率，还可以实现5 nm以下极小尺寸石墨烯纳米带的可控加工.研究结果为石墨烯精细纳米结构器件的高效批量加工提供了思路.

关键词：石墨烯纳米结构、各向异性刻蚀、栅压、可控加工

所属期刊栏目：65

分类号：TN3;TN9

资助基金：国家重点基础研究发展计划2013CB934500,2013CBA01602;国家自然科学基金91223204,61325021,11574361,91323304;中国科学院B类先导项目XDB07010100资助的课题

在线出版日期：2016-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：196101-1-196101-6