基于多层电介质光栅光谱合成的光束质量

摘要：

基于电介质光栅的光谱合成是实现高功率高光束质量激光的重要途径.在电介质光栅的光谱合成系统中，光栅色散效应是影响合成激光光束质量的重要因素.本文推导了单光栅和双光栅光谱合成系统中由于光栅色散引起M2因子的变化公式；详细讨论了这两种合成系统中单路激光线宽、单路激光光斑半径、相邻两路激光波长差、相邻两路激光间距以及光栅周期对光束质量的影响.研究表明对于单光栅合成系统，在合成过程中若保持光束质量M2因子的大小不变，则单路激光带宽随光斑半径的增加而减小；在双光栅光谱合成系统中，在保持光束质量的前提下，单路激光带宽可随光斑半径的增大而相应增加.数值计算表明，若要满足合成光束的光束质量M 2≤1.2的要求，在单光栅系统中激光带宽需窄于亚纳米量级，在双光栅系统中激光带宽可为亚纳米.本文为高功率、高光束质量的光纤激光光谱合成系统的搭建提供了理论指导.

关键词：光谱合成、光纤激光、多层电介质光栅、光束质量

所属期刊栏目：65

分类号：O43;TN2

在线出版日期：2016-06-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：104203-1-104203-10