强激光照射对2H-SiC晶体电子特性的影响?
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.7498/aps.64.227101

强激光照射对2H-SiC晶体电子特性的影响?

引用
使用基于密度泛函微扰理论的第一原理赝势法,计算了纤锌矿结构2H-SiC晶体在强激光照射下的电子特性,分析了其能带结构和电子态分布.计算结果表明:2H-SiC平衡晶格参数a 和c随电子温度T e的升高逐渐增大;电子温度在0—2.25 eV范围内时,2H-SiC仍然是间接带隙的半导体晶体,当T e超过2.25 eV达到2.5 eV以上时,2H-SiC变为直接带隙的半导体晶体;随着电子温度升高,导带底和价带顶向高能量或低能量方向发生了移动,当电子温度T e大于3.5 eV以后,价带顶穿越费米能级;电子温度T e在0—2.0 eV变化时,带隙随电子温度升高而增大;T e在2.0—3.5 eV范围变化时,带隙随电子温度升高而快速地减少,表明2H-SiC晶体的金属性随电子温度T e的继续升高而增强.在T e =0,5.0 eV 处,计算了2H-SiC晶体总的电子态密度和分波态密度.电子结构表明T e =0 eV时,2H-SiC是一个带隙为2.3 eV的半导体;在T e =5.0 eV时,带隙已经消失而呈现出金属特性,表明当电子温度升高时晶体的共价键变弱、金属键增强,晶体经历了一个熔化过程,过渡到金属状态。

2H-SiC、电子特性、激光照射、密度泛函微扰理论

TN3;O47

国家科技部支撑计划批准号:2014GB111001,2014GB125000资助的课题.?* Project supported by the National Key Technology Research and Development Program of the Ministry of Science and Technology of China Grant .2014GB111001,2014GB125000

2015-12-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共1页

227101-0-227101-9

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

物理学报

1000-3290

11-1958/O4

2015,(22)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn