不同织构CVD金刚石膜的Hall效应特性?

摘要：

采用热丝化学气相沉积法在p型硅衬底上制备了不同织构的多晶金刚石膜，使用XRD表征了CVD金刚石膜的结构特征，研究了退火后不同织构金刚石膜的电流特性，使用Hall效应检测仪研究了金刚石膜的霍尔效应特性及随温度变化的规律，结果表明所制备的金刚石膜是p型材料，载流子浓度随着温度的降低而增加，迁移率随着温度的降低而减小.室温下[100]织构金刚石薄膜的载流子浓度和迁移率分别为4.3×104 cm?3和76.5 cm2/V·s.

关键词：金刚石膜、载流子浓度、迁移率、霍尔效应

资助基金：国家自然科学基金61176072;上海市人才发展基金201425资助的课题

在线出版日期：2015-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：117301-1-117301-5