线性微波化学气相沉积制备SiNx薄膜的微结构及光学性能研究?

摘要：

利用自主研发的线性微波化学气相沉积系统在不同微波功率、微波占空比、基片温度、特气比例条件下制备了SiNx薄膜.通过扫描电子显微镜、椭圆偏振仪等表征测量技术，研究了不同工艺参数对SiNx薄膜表面形貌、元素配比、折射率、沉积速度的影响，并探讨了薄膜元素配比、折射率、沉积速度间的关系.结果表明：利用线性微波沉积技术，不同工艺参数下制备的SiNx薄膜组成元素分布均匀，同时具有平整的表面状态；特气比例和微波占空比是影响薄膜折射率的最主要因素，薄膜折射率在1.92—2.33之间连续可调；微波功率、微波占空比、沉积温度、特气比例都对SiNx 薄膜沉积速度影响较大，制备的SiNx薄膜最大沉积速度为135 nm·min?1.

关键词：氮化硅薄膜、线性微波化学气相沉积、折射率、沉积速度

分类号：O48;TP3

资助基金：D o c t o r a l F u n d o f M i n i s t r y o f E d u c a t i o n o f C h i n a G r a n t N o .20120042110031

在线出版日期：2015-04-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：397-403