软模板纳米压印技术及其对共轭高分子的取向控制研究

摘要：

纳米压印模板通常需要经过电子束光刻、电子束沉积、光刻胶剥离、反应离子刻蚀等一系列复杂工艺获得,这使得纳米压印模板的制作难度大,成本高。寻找一种灵活简单的纳米压印模板制备方法以提升纳米压印模板的制作效率,是广泛应用纳米压印技术的研究重点和难点。本文以写好光栅结构的电子束光刻胶层为母模板,获得聚二甲基硅氧烷软模板,并以此为模板对共轭高分子聚(9,9-二辛基)芴薄膜进行纳米压印,实现光栅结构转移,成功制备出纳米光栅结构的共轭高分子薄膜。偏振吸收谱和透射电镜结果表明,纳米压印实现图案转移的同时,还可以将共轭高分子的主链控制在光栅条纹方向,这将对有机发光器件性能的提升具有重要的意义。研究结果还表明,应用该方法同样可以对聚(9,9-二辛基芴共苯并噻二唑)薄膜进行光栅图案化,同时实现其取向控制。

关键词：纳米压印、软模板、共轭高分子、分子链取向

分类号：TN3;O63

资助基金：国家自然科学基金21204058;中央高校基本科研业务费专项资金批准号:JUSRP11433资助的课题.* Project supported by the National Natural Science Foundation of ChinaGrant 21204058;the Fundamental Research Funds for the Central UniversitiesGrant JUSRP11433

在线出版日期：2014-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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