隧道场效应晶体管静电放电冲击特性研究
随着器件尺寸的不断减小,集成度的逐步提高,功耗成为了制约集成电路产业界发展的主要问题之一。由于通过引入带带隧穿机理可以实现更小的亚阈值斜率,隧道场效应晶体管(TFET)器件已成为下一代集成电路的最具竞争力的备选器件之一。但是TFET器件更薄的栅氧化层、更短的沟道长度容易使器件局部产生高的电流密度、电场密度和热量,使得其更容易遭受静电放电(ESD)冲击损伤。此外, TFET器件基于带带隧穿机理的全新工作原理也使得其ESD保护设计面临更多挑战。本文采用传输线脉冲的ESD测试方法深入分析了基本TFET器件在ESD冲击下器件开启、维持、泄放和击穿等过程的电流特性和工作机理。在此基础之上,给出了一种改进型TFET抗ESD冲击器件,通过在源端增加N型高掺杂区,有效的调节接触势垒形状,降低隧穿结的宽度,从而获得更好的ESD设计窗口。
隧道场效应晶体管(TFET)、静电放电(ESD)、传输线脉冲(TLP)、带带隧穿机理
TM7;TN3
国家自然科学基金青年科学基金61106101资助的课题
2014-09-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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178501-1-178501-8