氧离子注入纳米金刚石薄膜的微结构和电化学性能研究

摘要：

在纳米金刚石薄膜中注入剂量为1012 cm-2的氧离子,并进行700,800,900和1000?C的真空退火处理,系统研究薄膜的微结构和电化学性能结果表明,氧离子注入未退火(O120)和氧离子注入1000?C退火(O121000)电极的电势窗口分别为4.60 V和3.61 V,远大于其他电极的电势窗口,并且这两个样品的电极传质效率较高,说明氧离子注入和高温退火有利于提高电极的传质效率.红外光谱测试表明,样品O120和O121000的表面没有碳氢基团终止层,而其他样品均含有氢终止层,说明氧离子注入和高温退火破坏了薄膜表面含碳氢基团的氢终止层,提高了薄膜的电化学性能Raman光谱测试结果表明,金刚石含量较高、内应力较小和非晶石墨相无序化程度较大的样品具有较好的电化学性能；并且薄膜晶界处的非晶碳的团簇数量或者尺寸减小,样品的电化学性能提高.

关键词：纳米金刚石薄膜、氧离子注入、电化学性能、微结构

分类号：TN3;TM9

资助基金：国家自然科学基金50972129;浙江省钱江人才计划2010R10026资助的课题

在线出版日期：2014-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：148102-1-148102-8