外加磁场对射频磁控溅射制备铝掺杂氧化锌薄膜影响的研究

摘要：

利用射频磁控溅射法制备了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜，在传统的磁控溅射系统中引入外加磁场，研究了外加磁场对AZO薄膜沉积速率、形貌结构及光电特性的影响.研究结果表明，外加磁场后薄膜的沉积速率从不加磁场的13.04 nm/min提高到了19.93 nm/min；外加磁场后薄膜表面平整致密、颗粒大小均匀，结晶质量较高，而不加磁场薄膜表面形貌呈蠕虫状，薄膜质量较差.溅射时间为90 min时，外加磁场前后AZO薄膜方阻分别为30.74?/□和12.88?/□.外加磁场对薄膜可见光透过率影响不大，但使薄膜的吸收边蓝移现象更明显.运用ansys软件对磁控溅射二维磁场分布模拟后发现，外加磁场提高了靶上方横向磁场强度，改善了磁场分布的均匀性，加强了磁场对电子的磁控作用，提高了靶电流，是AZO薄膜的溅射速率、光电性能和形貌结构得到提高和优化的原因.

关键词：外加磁场、磁控溅射、AZO、透明导电薄膜

分类号：TG1;TB3

资助基金：上海工程技术大学研究生创新项目13KY0508;上海高校一流学科建设计划YLJX12-2资助的课题

在线出版日期：2014-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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