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稳恒磁场对 Fe-Fe50 wt.%Si 扩散偶中间相生长的影响*

引用
  本文考察了 Fe-Fe50 wt.%Si 扩散偶在1200?C 无磁场以及稳恒磁场下扩散层生长规律.利用真空浇注强制冷却技术制备 Fe-Fe50 wt.%Si 扩散偶,将制备的扩散偶进行1200?C 不同磁感应强度下的热处理.对获得热处理后试样进行 SEM 与 EDS 线扫描分析,结果表明,无论无磁场还是稳恒磁场下 Fe-Fe50 wt.%Si 扩散偶均生成两个扩散层,即FeSi 相层和 Fe-Si 固溶体层,并且发现0.8 T 下的两个扩散层宽度均小于0 T 磁场下试样.按照抛物线规律,计算了扩散偶中间扩散层的互扩散系数,发现0.8 T 磁场下 FeSi 相层和 Fe-Si 固溶体层的互扩散系数较无磁场下分别降低了26.7%与34.1%.通过对磁吉布斯自由能的计算,发现0.8 T 磁场对扩散激活能 Q 的影响不足以影响扩散过程.但扩散过程中原子振动频率ν会受到磁场的影响,进而影响扩散常数 D0,磁场对原子振动频率的影响可以用拉莫尔旋进理论进行解释.

Fe-Fe50wt.、Si 扩散偶、稳恒磁场、FeSi 相、Fe-Si 固溶体

TG1;TQ1

国家自然科学基金-钢铁联合基金重点项目批准号:51034010资助的课题.* Project supported by the National Natural Science Foundation of China Grant 51034010

2013-07-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共1页

136801-1-136801-8

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