热原子层沉积氧化铝对硅的钝化性能及热稳定性

摘要：

原子层沉积氧化铝已经成为应用于钝化发射极和背面点接触（PERC）型晶硅太阳能电池优异的钝化材料．对于基于丝网印刷技术的太阳能电池，钝化材料的钝化效果及其热稳定性是非常重要的．本文在太阳能级硅片上用热原子层沉积设备制备了20nm和30nm的氧化铝，少子寿命测试结果显示初始沉积的氧化铝薄膜具有一定的钝化效果，在退火后可达到100μs以上，相当于硅表面复合速度小于100cm／s．经过制备传统晶硅太阳能电池的烧结炉后，少子寿命能够保持在烧结前的一半以上，可应用于工业PERC型电池的制备．通过电子显微镜观察到了较厚的氧化铝薄膜有气泡，解释了30nm氧化铝比20nm氧化铝钝化性能和稳定性更差的异常表现．

关键词：表面钝化、热原子层沉积、氧化铝、晶硅太阳能电池

所属期刊栏目：61

分类号：TN304.21(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60821092,U1037604;上海市启明星计划11QBl406800;上海技术物理研究所创新项目Q-zY-51资助的课题

在线出版日期：2013-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：512-516