氦对铜钨纳米多层膜界面稳定性的影响

摘要：

采用射频磁控溅射方法，分别在纯Ar和ALHe混合气氛下制备了多个不同调制周期的CtffW纳米多层膜．利用增强质子背散射（EPBS）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）分别对Cu／W多层膜中He含量、截面形貌和相结构进行了分析．结果表明：多层膜的界面稳定性是耐氦损伤的前提和保证．在适当的调制周期下，纳米多层膜能有抑制氦泡成核及长大的能力．

关键词：Cu/W、纳米多层膜、氦泡、界面稳定性

所属期刊栏目：61

分类号：TG111.4(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金51171124,50771069;四川省科技支撑计划基金2008FZ0002;教育部新世纪人才基金NCET-08-0380;金属材料强度国家重点实验室开放基金201011006资助的课题

在线出版日期：2012-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：417-422