磁控溅射辉光放电特性的模拟研究

摘要：

采用二维、自洽的PIC／MCC（particle-in-cell with Monte Carlo collision）方法，模拟了磁控溅射辉光放电过程，重点讨论了工作参数对放电模式和放电电流的影响．模拟结果表明，当工作气压由小到大或空间磁场从强到弱变化时，放电模式会从阴极空间电荷主导的放电模式过渡到阳极空间电荷主导的放电模式．在过渡状态，对应的工作气压与磁通密度分别为0．67Pa和0．05T；随着工作气压的增大，放电电流先增大后趋向平衡，当工作气压超过2．5Pa时，电流开始随工作气压的增大而减小；而阴极电压增大时，放电电流近似线性增加．

关键词：磁控溅射、辉光放电、计算机模拟、状态分布

所属期刊栏目：61

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60766002;科技部国际合作专项基金2008DFA52210;贵州省科技攻关项目黔科合GY字[2011]3015;贵州省科技创新人才团队建设专项基金黔科合人才团队[201114002;贵州省国际科技合作项目黔科合外G字[2012]7004,黔科合外G字[2009]700113资助的课题

在线出版日期：2012-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：316-321