连续位相板均方根梯度对焦斑匀滑特性的影响

摘要：

为满足惯性约束聚变（ICF）系统中,对焦斑均匀辐照的条件,研究了连续位相板（CPP）面形特征对远场光斑质量的影响.从波动光学和几何光学两个不同的角度建立分析模型,并利用均方根梯度这一参数将其统一起来.利用所建立的分析模型,通过数值计算研究了CPP面形均方根梯度对低频畸变光束的匀滑效果.结果表明：随着CPP均方根梯度增大,匀滑后的远场焦斑半径增大;光束顶部不均匀性先很快减小,再缓慢降低,最后趋于不变,可见CPP对光束的匀滑效果明显;束匀滑过程对能量利用率的影响先几乎不变,然后逐渐减小.当CPP的相关长度不变,均方根梯度在0.2—0.8wave/mm范围内时,光斑尺寸、光束顶部不均匀性及能量利用率都在较好的范围.

关键词：连续位相板、均方根梯度、光束匀滑、聚焦光斑

所属期刊栏目：60

分类号：TN248.22(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家重大科学研究计划JG2010099

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：272-279