熔石英亚表面杂质颗粒附近光场调制的三维模拟

摘要：

熔石英亚表面缺陷是光学材料低损伤阈值的主要因素之一.本文建立了熔石英亚表面三维球形杂质颗粒模型,采用三维时域有限差分方法对杂质附近的光场进行了数值模拟,分析了杂质的介电常数与尺寸对光强增强因子的影响,结果显示:介电常数小于熔石英的杂质,其光强增强因子不随尺寸、介电常数的改变而改变,均保持为4左右;当介电常数为6.0时,半径为1.5λ,2λ及2.5λ的杂质,相应的光强增强因子分别为50.1588,73.3904及102.9953,即增强因子随杂质尺寸的增大而增大;恰为球体的杂质比椭球体的杂质对入射光强的增强更大.因此,介电常数大于熔石英,且尺寸较大的球形杂质,其场增强非常明显.

关键词：杂质颗粒、三维时域有限差分、数值计算、光强增强因子

所属期刊栏目：60

分类号：O482.3(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划2007AA804233;2008AA8040508;电子科技大学青年基金重点项目L08010401JX0806;国家自然科学基金和中国工程物理研究院联合基金11070008

在线出版日期：2011-07-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：237-241