直流电源耦合高功率脉冲非平衡磁控溅射电离特性

摘要：

采用直流电源放电形成高功率脉冲非平衡磁控溅射(dc-high power impulse unbalanced magnetron sputtering,dc-HPPUMS或dc-HiPiUMS),利用雪崩放电的击穿机理形成深度自触发放电,同轴线圈和空心阴极控制放电特性和提高功率密度.磁阱俘获雪崩放电形成的二次电子和形成漂移电流,形成了大电流脉冲放电,放电脉冲电流密度峰值超过100 A/cm2,脉冲频率小于40 Hz.由于放电等离子体远没有达到平衡状态,放电电流主要受到空间电荷效应的限制,采用放电理论分析了形成高电离率和强脉冲电流的机理,采用蔡尔德定律计算的放电参数符合实验的结果.

关键词：放电、脉冲技术

所属期刊栏目：60

分类号：O461.1(真空电子学（电子物理学）)

资助基金：国家自然科学基金50407015;辽宁省教育厅科研项目

在线出版日期：2011-07-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：422-428