硬X射线相位光栅的设计与研制

摘要：

针对在普通实验室和医院实现40-100 keV X射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6 μm,线宽为2.8 μm,深度为40-70 μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效.

关键词：X射线、相衬成像、相位光栅、硅刻蚀、光助电化学刻蚀

所属期刊栏目：59

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金重点项目60232090;广东省高等学校创新团队项目06CXTD009;深圳市科技局2008340;JC200903130326A

在线出版日期：2010-12-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：6927-6932