大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断

摘要：

本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl_4及H_2气混合气体(Ar/SiCl_4/H_2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl_4解离率的作用.

关键词：大气压等离子体射流、发射光谱、电子激发温度、多晶硅薄膜沉积

所属期刊栏目：59

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金10775026;10675028

在线出版日期：2010-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：2653-2660