低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能
通过溶剂蒸发对流自组装法制备SiO_2三维有序胶体模板,采用等离子体增强化学气相沉积法在200℃低温条件下填充高折射率材料Ge,获得了Ge反opal三维光子晶体.实现了低于GeH_4热分解温度的低温填充.通过扫描电镜、X射线衍射仪和傅里叶变换显微红外光谱仪对Ge反opal的形貌、成分和光学性能进行了表征.结果表明:沉积得到无定型态Ge,退火后形成多晶Ge,Ge在SiO_2微球空隙内填充致密均匀.Ge反opal的反射光谱有明显的光学反射峰,表现出光子带隙效应,其带隙中心波长为1650 nm和2640 nm,测试的光学性能与理论计算基本符合.采用SU-8光刻胶薄膜也进行了Ge沉积,证实了SU-8模板可以耐受这一沉积温度.低温沉积降低了Ge的填充温度,可以直接采用不耐高温的高分子材料作为初始模板,单次复型制备得到多种构型的完全带隙三维光子晶体.
Ge反蛋白石(opal)光子晶体、低温等离子增强化学气相沉积、高分子材料、光子带隙
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O371(流变学)
科技部科研项目5130702002
2010-05-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
1839-1846