高电流密度圆柱状电子光学系统设计

摘要：

设计了高电流密度圆柱状电子枪,并分析了枪体参数对电子注品质的影响;运用径向力平衡理论计算了聚焦磁场.三维模拟软件CST PARTICLE STUDIO模拟显示,在枪体电极和空间电荷形成的静电场,以及聚焦磁场作用下,电子呈角向先变速后匀速螺旋状运动,其旋转半径始终与出射阴极面时的半径相同,从而在枪区和互作用通道内维持了注包络水平.模拟结果与设计理论相符.注平均电流密度达到24.4 A/cm~2,层流性良好,填充因子76.7%,流通率100%.

关键词：电子枪、聚焦磁场、电子光学系统、注包络

所属期刊栏目：59

分类号：O371(流变学)

资助基金：国家重大基础研究发展计划973项目2007CB310401

在线出版日期：2010-05-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1721-1725