动力学研究AlN/α-Al2O3(0001)薄膜生长初期的吸附与扩散

摘要：

采用基于第一性原理的从头计算分子动力学方法,计算了300-800℃下AlN吸附过程与系统能量、动力学轨迹以及扩散系数.研究表明,吸附过程由物理吸附、化学吸附和表面稳定态三个阶段组成,在吸附成键过程中,温度越高,粒子平均表面扩散能力增强.N原子的扩散系数大于Al原子的扩散系数,尤其是在物理吸附阶段.在较高温度条件下(大于700℃),N的解吸附作用明显增强,不利于AlN的稳定吸附生长,500-700℃之间的温度有利于AlN在α-Al2O3(0001)表面的稳定吸附生长.

关键词：α-Al2O3(0001)表面、扩散、吸附生长、从头计算分子动力学

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分类号：O4(物理学)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划61363;四川省青年科技基金07ZQ026-021

在线出版日期：2009-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：3553-3559